HTR-01桌式4英寸快速退火炉

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更新时间：2024-05-13
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HTR-01 桌式4英寸快速退火炉

HTR-01桌式4英寸快速退火炉

HTR-01桌式4英寸快速退火炉系列采用红外辐射加热技术，可实现1-10片样品同时进行，可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。

主要应用领域：

快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN);离子注入/接触退火;

金属合金;

热氧化处理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;

太阳能电池片退火;高温退火;

高温扩散。

产品特点

快速加热和降温: 最高可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。

精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。

适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，最高真空度可达10-5Pa。

配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。

超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，保障仪器使用安全。

售后服务：，能快速反应客户售后需求。

最大样品尺寸	4英寸（直径20mm）
控温范围	RT~1200℃
升温速率(max)	50℃/s
高温段降温速率（max）	600℃/min
温度均匀性	≦1%
控温精度	±0.1℃
气体流量	标配1路，可扩展至多路
放样管径	Ф210mm*320mm
放样数量	4-10个
真空度	真空度可以达到10-5
控制方式	支持真空、氧化、还原、惰性气体等工艺气氛，也可设置通过软件控制真空及通气时间

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